Метод физического укладчика газовой фазы является основным методом для приготовления PVD-покрытий, включая вакуумное покрытие, магнитроновое распыление и ионное покрытие дуги, среди которых, когда ионное покрытие используется для приготовления PVD-покрытий, скорость ионизации высока, скорость накопления является быстрой, и обладает преимуществами больших инцидентных ионов, и хорошей качество. Тем не менее, это PVD -покрытие имеет большое загрязнение частиц, что приводит к таким проблемам, как внешний вид грубого покрытия, добавление пористости и нестабильное покрытие, что влияет на использование клиентов. Вот как улучшить PVD -покрытие с большими частицами.
1. Введение редкоземельных элементов
Внедрение редких элементов в катодных мишенях и PVD-покрытиях для уменьшения ионных частиц и улучшения тонкой плотности покрытий, а также для улучшения физических и механических свойств и высокотемпературных свойств покрытий с помощью механизма модификации редкозеза, эффект очевиден. Редко -Земля CE оказывает очевидное влияние на уменьшение капель, а PVD -покрытие, модифицированное редкоземелью, не только имеет небольшую плотность капель, но также имеет меньше больших капель. Причиной улучшения условия частицы покрытия редкоземельной Земли должна быть напрямую связана с металлургическим качеством целевых предприятий редкоземельного прогресса.
Широко используемые редкоземельные элементы представляют собой металлургический процесс CE для дегазации, десульфуризации и укрепления качеств металлических материалов. Металлургическое качество и функциональность материала могут быть подняты путем введения подходящего разбавленного элемента CE для цели. Немногие пор, однородная композиция и тонкие зерна высококачественного целевого материала помогают уточнить частицы, полученные из катода. Это может снизить вероятность фрагментации материала и распыления в области точечной микромельта катодной дуги, возникающей в результате высокого давления, создаваемого резким расширением газа в закрытых порах при высокой температуре. Избегая или смягчив коллапс и летучую поверхность слабосвязанных материалов, возникающих в результате частичных электрических полей или термоупругого напряжения, расположение цели может помочь снизить генерацию больших частиц. Помимо CE, редкоземельные элементы, такие как Y или LA, имеют сопоставимое влияние.
2. Новая электромагнитная система
Этот навык рассматривался по проектированию улучшенных катодных целей и плазменной оптики. Идея состоит в том, чтобы спроектировать новую структуру магнитного поля внутри и снаружи цели, включая специальную электромагнитную катушку и постоянный магнит с определенной структурой, чтобы она образовала систему арочного магнитного поля на катодной мишени, чтобы контролировать и регулировать следующий путь катодной дуги, ускорить скорость движения и уменьшить время пребывания в определенной точке на поверхности целевого.
3. Добавьте перегородку к устройству
Анализ показывает, что преобладающее распределение больших частиц находится в области под углом 60 градусов к поверхности дуговой мишени; Таким образом, перегородка может быть помещена перед целью дуги, чтобы понизить уровень загрязнения слоя пленки больших частиц. В то время как размер больших частиц меньше 2 мкм, плотность больших частиц упала с 2,3 х 105\/мм2 до 1,4 х 103\/мм2 без перегородки, существенно не изменилась. Но как только перегородка будет введена в действие, цель PVD -покрытия страдает в дополнение к снижению уровня накопления.
4. навыки пустого катода
В PVD -покрытии с ионным покрытием ARC вводится электронный луч, испускаемый полым катодом, для уменьшения большого размера частиц приготовленного покрытия, но этот метод требует добавления пологоо катодного устройства в обычном оборудовании для ионного покрытия.
5. Арк -магнитный фильтр
Метод введения плазмы в камеру накопления с использованием дугового магнитного фильтра, чтобы отделить большие частицы от плазмы, достиг хорошего эффекта, но скорость накопления этого метода намного ниже, чем у обычного ионного покрытия дуги.
Выше приведено введение метода улучшения больших частиц PVD -покрытия, при приготовлении PVD -покрытия вы можете сослаться на пять вышеупомянутых методов, чтобы гарантировать, что структура поверхности покрытия в порядке, пористость низкая, а свойства стабильны, так что эффект использования покрытия будет лучше.